TWINSCAN EXE:5000, la clave de Intel para dominar la litografía
La industria de los chips se encuentra en un campo de batalla, con Estados Unidos y China como principales contendientes.
El gigante de la litografía: TWINSCAN EXE
Las sanciones impuestas por Estados Unidos a China han tenido un impacto significativo, y empresas como Intel están aprovechando la oportunidad para tomar la delantera.
Detrás de este avance se encuentra la tecnología de vanguardia. Intel ha presentado recientemente su TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV, la máquina de litografía ultravioleta extrema más avanzada del mundo.
Esta mastodóntica estructura, con un costo de 350 millones de dólares, permite a Intel reducir el número de procedimientos, el tiempo de fabricación, la complejidad y los costos.
Un paso adelante en la carrera por la miniaturización
La creación de chips de última generación, como los de 2 nm, requiere una tecnología de precisión extrema. La máquina de Intel, desarrollada en colaboración con ASML, el gigante neerlandés líder en la fabricación de chips, coloca a la empresa estadounidense por delante de la competencia.
A pesar de ser la máquina más avanzada del mundo, la TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV no garantiza el 100% de efectividad. La tasa de éxito de las obleas oscila entre el 70% y el 85%, lo que significa que solo entre 7 y 8 de cada 10 chips producidos son utilizables.
Una ventaja estratégica para Intel
A pesar de esta limitación, la tasa de éxito de Intel supera con creces la de sus competidores chinos. Esta ventaja tecnológica, sumada a las sanciones estadounidenses contra China, está posicionando a Intel como un líder indiscutible en la carrera por la miniaturización de chips.
La batalla por la supremacía en la industria de los chips está lejos de terminar. El desarrollo de nuevas tecnologías y la constante innovación serán claves para determinar el futuro de este sector crucial para la economía global.
